一、低溫拋光工藝

　　①低溫拋光槽中低溫拋光劑濃度控制為總酸25—30g/l，最低≥15 g/l；

　　②拋光槽溫20-30℃不得低于20℃，拋光時間90—200s；

　?、厶峒軆A斜，滴凈殘液后，迅速放入清水槽中漂洗，經(jīng)兩道水洗后迅速放入氧化槽氧化，在水槽中停留時間不應大于3分鐘；

　?、艿蜏貟伖獠牧显趻伖馇安坏眠M行其它方式的處理，也不能將其它槽液帶入拋光槽中。

　　二、除油工藝

　?、僭谑覝厮嵋褐羞M行，時間2—4分鐘，H2SO4濃度140-160 g/l；

　　②提架傾斜滴凈殘液后，放入清水槽中清洗1-2分鐘。

　　三、磨砂（酸蝕）工藝

　　①除油后在清水槽清洗再進入酸蝕槽；

　　②工藝參數(shù)：NH4HF4濃度30-35 g/l，溫度35-40℃，PH值2.8-3.2，酸蝕時間3-5分鐘；

　?、鬯嵛g結(jié)束后經(jīng)兩道水洗再進入堿蝕槽。

　　四、鋁氧化的工藝流程：

　　1、上架；水洗；低溫拋光

　　2、磨砂料及磨砂電泳料氧化

　　3、著色料及著色電泳料氧化